本發(fā)明涉及生活電器，具體而言，涉及一種蓋體和一種烹飪器具。

背景技術(shù)：

1、目前，相關(guān)技術(shù)中的蒸鍋產(chǎn)品通過產(chǎn)生蒸汽對(duì)食物進(jìn)行加熱，且在頂部設(shè)有鍋蓋用于防止蒸汽快速散失以提高內(nèi)部溫度。

2、然而，當(dāng)高溫蒸汽接觸到溫度較低的鍋蓋或其他結(jié)構(gòu)時(shí)會(huì)產(chǎn)生冷凝水，冷凝水接觸到食材會(huì)影響食材的口感和外觀。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的實(shí)施例旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。

2、為此，本發(fā)明的實(shí)施例的第一方面提供了一種蓋體。

3、本發(fā)明的實(shí)施例的第二方面提供了一種烹飪器具。

4、有鑒于此，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的第一方面，提供了一種蓋體，蓋體包括：蓋本體，蓋本體的至少一部分傾斜設(shè)置；親水層，設(shè)于蓋本體的一側(cè)表面上，親水層具有凹凸結(jié)構(gòu)。

5、本發(fā)明實(shí)施例提供的蓋體包括蓋本體和親水層，具體而言，親水層設(shè)置在蓋本體的一側(cè)表面上，可以理解的是，蓋體被配置為適于蓋設(shè)在器具本體上，其中，器具本體設(shè)置有烹飪腔，也就是說，當(dāng)蓋體蓋設(shè)在器具本體上時(shí)，蓋體能夠封閉烹飪腔，以防止烹飪器具在工作狀態(tài)下，烹飪腔內(nèi)的蒸汽散失，確保烹飪器具的加熱效果。

6、可選地，親水層設(shè)置在蓋本體的內(nèi)表面上，也就是說，親水層設(shè)置在蓋本體朝向烹飪腔的一側(cè)表面上?；蛘撸w本體的內(nèi)表面和外表面均設(shè)置有親水層。

7、親水層具有凹凸結(jié)構(gòu)，也就是說，親水層為具有凹凸結(jié)構(gòu)的粗糙層，從而使得親水層表現(xiàn)為親水的表面狀態(tài)。當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于蓋本體設(shè)有親水層，且親水層具有凹凸結(jié)構(gòu)，從而使得冷凝水在親水層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

8、而且，在蓋體打開烹飪腔，并將蓋體置于臺(tái)面上時(shí)，也不會(huì)形成水滴滴落在臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

9、蓋本體的至少一部分傾斜設(shè)置，從而使得冷凝在親水層上的冷凝水在親水層的表面擴(kuò)散形成液膜后，能夠沿著親水層流下，也就是說，當(dāng)蓋體的內(nèi)側(cè)冷凝了大量冷凝水后，由于蓋本體傾斜，使得冷凝水能夠沿著親水層的表面流下排出，防止蓋體內(nèi)側(cè)冷凝水的量較大時(shí)滴落到食材上，進(jìn)一步確保食材烹飪后的口感和外觀。

10、而且，還能夠防止在開蓋時(shí)蓋體內(nèi)側(cè)的高溫冷凝水燙傷用戶，提高烹飪器具的使用安全。

11、具體地，當(dāng)冷凝水的量較小時(shí)，冷凝水在親水層上擴(kuò)散形成液膜，不會(huì)形成水滴滴落。當(dāng)冷凝水聚集較多時(shí)，冷凝水在親水層擴(kuò)散形成液膜后，沿著親水層的表面流下排出。

12、另外，根據(jù)本發(fā)明上述技術(shù)方案提供的蓋體，還具有如下附加技術(shù)特征：

13、在一些技術(shù)方案中，可選地，蓋本體包括相背的第一表面和第二表面，第一表面和第二表面分別設(shè)有親水層。

14、在該技術(shù)方案中，限定了蓋本體包括相背的第一表面和第二表面，也就是說，蓋本體包括內(nèi)表面和外表面，且內(nèi)表面和外表面均設(shè)置有親水層。

15、由于親水層具有凹凸結(jié)構(gòu)，也就是說，親水層為具有凹凸結(jié)構(gòu)的粗糙層，從而使得親水層表現(xiàn)為親水的表面狀態(tài)。

16、當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于蓋本體設(shè)有親水層，且親水層具有凹凸結(jié)構(gòu)，從而使得冷凝水在親水層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。而且，在蓋體打開烹飪腔，并將蓋體置于臺(tái)面上時(shí)，也不會(huì)形成水滴滴落在臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

17、此外，在蓋本體的內(nèi)表面和外表面均設(shè)置有親水層，從而可以便于蓋本體表面親水層的形成，降低蓋體的制造難度，提高蓋體的生產(chǎn)效率，進(jìn)而降低烹飪器具的生產(chǎn)成本。

18、舉例地，在親水層為形成在蓋本體內(nèi)外表面的氧化處理層的情況下，在蓋體的制造過程中，可以將蓋本體直接置于電解質(zhì)溶液中，并在設(shè)定電參數(shù)的條件下，在蓋本體的各個(gè)表面形成氧化處理層。

19、在一些技術(shù)方案中，可選地，凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)凹坑；和/或凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)凸部；和/或凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)親水孔。

20、在該技術(shù)方案中，具體地，凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)凹坑?；蛘?，凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)凸部?；蛘撸纪菇Y(jié)構(gòu)包括多個(gè)親水孔。或者，凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)凹坑和多個(gè)凸部?；蛘撸纪菇Y(jié)構(gòu)包括多個(gè)凹坑和多個(gè)親水孔?；蛘?，凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)凸部和多個(gè)親水孔。或者，凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)凸部、多個(gè)凹坑和多個(gè)親水孔。具體可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)置。

21、通過使親水層的表面具有凹坑、凸部和親水孔中至少一者的凹凸結(jié)構(gòu)，從而使得親水層的表面為粗糙結(jié)構(gòu)，進(jìn)而使得親水層形成為親水的表面狀態(tài)。

22、當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于蓋本體設(shè)有親水層，且親水層具有凹凸結(jié)構(gòu)，從而使得冷凝水在親水層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

23、在一些技術(shù)方案中，可選地，在凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)親水孔的情況下，至少一個(gè)親水孔的直徑d滿足1μm≤d≤80μm。

24、在該技術(shù)方案中，在凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)親水孔的情況下，限定了親水孔的孔徑，具體地，至少一個(gè)親水孔的孔徑在1μm至80μm之間。也就是說，在親水層的表面形成微米結(jié)構(gòu)，從而使得親水層形成為親水的表面狀態(tài)，即親水層的表面具有浸潤(rùn)導(dǎo)流的特性。同時(shí)，由于親水孔的孔徑較小，還能夠避免雜質(zhì)等污染孔隙。

25、具體地，當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于蓋本體設(shè)有親水層，且親水層具有多個(gè)親水孔，從而使得冷凝水在親水層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

26、可選地，至少一個(gè)親水孔的直徑d滿足5μm≤d≤25μm。即進(jìn)一步將親水孔的孔徑控制在5μm至25μm之間。從而能夠在親水層具有浸潤(rùn)導(dǎo)流特性的同時(shí)，進(jìn)一步避免雜質(zhì)等污染孔隙。

27、在一些技術(shù)方案中，可選地，親水層的厚度d滿足10μm≤d≤100μm；和/或親水層的潤(rùn)濕角0°≤α≤40°。

28、在該技術(shù)方案中，限定了親水層厚度的取值范圍，具體地，親水層的厚度在10μm至100μm之間，從而能夠在親水層表現(xiàn)為親水的表面狀態(tài)的同時(shí)，降低親水層的加工難度，進(jìn)而避免親水層的加工難度過大，提高蓋體的生產(chǎn)效率，降低烹飪器具的生產(chǎn)成本。

29、親水層的潤(rùn)濕角在0°至40°之間，從而使得親水層的表面具有優(yōu)異的親水效果，當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于親水層具有凹凸結(jié)構(gòu)，且潤(rùn)濕角在0°至40°之間，從而使得冷凝水在親水層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

30、可選地，當(dāng)凹凸結(jié)構(gòu)包括多個(gè)親水孔時(shí)，在冷態(tài)(室溫狀態(tài)25℃)，潤(rùn)濕角小于或等于30°，即親水層的潤(rùn)濕角在0°至30°之間，以進(jìn)一步提高親水層表面的親水效果。

31、在一些技術(shù)方案中，可選地，蓋本體朝向親水層的一側(cè)面為鋁基復(fù)合表面；或蓋本體為鋁基復(fù)合件。

32、在該技術(shù)方案中，限定了蓋本體朝向親水層的一側(cè)面為鋁基復(fù)合表面?；蛘?，蓋本體為鋁基復(fù)合件，從而可以對(duì)蓋本體的表面進(jìn)行氧化處理，例如硬氧或微弧氧化，能夠在蓋本體的表面形成具有多個(gè)孔隙(親水孔)的親水層，即微納結(jié)構(gòu)，進(jìn)而使得親水層表現(xiàn)為優(yōu)異的親水效果，當(dāng)蒸汽接觸蓋體形成冷凝水后，冷凝水在親水層表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴滴落。

33、可選地，蓋本體為鋁合金件，能夠提高蓋體的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，有利于延長(zhǎng)蓋體的使用壽命。

34、可選地，蓋本體朝向親水層的一側(cè)面為鋁合金表面。

35、可選地，在蓋本體表面進(jìn)行氧化處理的工藝參數(shù)如下：

36、電解液成分：15g/l-21g/lna2o·nsio2，1g/l-5g/lnaoh，18g/l-22g/lc3h8o3，3g/l-8g/l(napo3)6。

37、設(shè)定電參數(shù)：電流15a，終止電壓500v，電解時(shí)間600s，頻率800hz。

38、也就是說，在設(shè)定電參數(shù)的條件下，將蓋本體置于上述電解液中，從而能夠在蓋本體的表面形成具有微納結(jié)構(gòu)的氧化層。微納結(jié)構(gòu)靠近蓋本體的表面較為致密，背離蓋本體的表面為具有一定孔隙的多孔結(jié)構(gòu)。

39、可以理解的是，在形成氧化層后，可以將氧化層表面不規(guī)則的部分打磨處理掉，也就是說，在形成氧化層后，可以通過打磨的方式控制氧化層上親水孔的孔徑，以確保氧化層的親水效果。

40、在一些技術(shù)方案中，可選地，蓋本體包括第一板體和第二板體，其中，第二板體與第一板體相連，第二板體圍繞蓋本體的中心周向設(shè)置，第二板體的至少一部分傾斜設(shè)置。

41、在該技術(shù)方案中，限定了蓋本體包括第一板體和第二板體，具體而言，第二板體與第一板體連接，且第二板體圍繞蓋本體的中心周向設(shè)置，即第二板體相較于第一板體遠(yuǎn)離蓋本體的中心設(shè)置，也就是說，第二板體位于第一板體的外周側(cè)。

42、第二板體的至少一部分傾斜設(shè)置，從而使得冷凝在親水層上的冷凝水在親水層的表面擴(kuò)散形成液膜后，能夠沿著親水層流下，也就是說，當(dāng)蓋體的內(nèi)側(cè)聚集了大量冷凝水后，由于第二板體傾斜，使得冷凝水能夠沿著親水層的表面流下，有利于冷凝水的快速排出。防止蓋體內(nèi)側(cè)冷凝水的量較大時(shí)滴落到食材上，進(jìn)一步確保食材烹飪后的口感和外觀。

43、而且，將蓋本體靠近外邊緣的一部分傾斜，能夠在有利于引導(dǎo)冷凝水沿親水層快速流下排出的同時(shí)，在將食材置于蒸架上時(shí)，能夠增大蓋體內(nèi)側(cè)與蒸架之間的距離，即增大親水層與食材之間的距離，避免在冷凝水量較大的情況下，溢到食材上，進(jìn)一步確保食材的烹飪效果。

44、可選地，第一板體和第二板體為一體結(jié)構(gòu)。

45、在一些技術(shù)方案中，可選地，親水層包括氧化層、涂層、化學(xué)刻蝕層、激光刻蝕層、化學(xué)沉積層或機(jī)械加工層中的一種。

46、在該技術(shù)方案中，限定了親水層包括氧化層、涂層、化學(xué)刻蝕層、激光刻蝕層、化學(xué)沉積層或機(jī)械加工層中的一種。

47、具體地，親水層包括氧化層，即在蓋本體的至少一個(gè)表面通過陽(yáng)極氧化、硬氧或微弧氧化等氧化處理方法，在蓋本體的至少一側(cè)表面形成具有凹凸結(jié)構(gòu)的氧化層，從而使得親水層表現(xiàn)為親水的表面特性。

48、或者，親水層包括涂層，即在蓋本體的至少一側(cè)表面通過噴涂涂層的方法，在蓋本體的至少一側(cè)表面形成具有凹凸結(jié)構(gòu)的涂層，從而使得親水層表現(xiàn)為親水的表面特性。

49、或者，親水層包括化學(xué)刻蝕層，也即在蓋本體的至少一側(cè)表面通過化學(xué)刻蝕或電化學(xué)刻蝕的方法，在蓋本體的至少一側(cè)表面形成具有凹凸結(jié)構(gòu)的化學(xué)刻蝕層，從而使得親水層表現(xiàn)為親水的表面特性。

50、或者，親水層包括激光刻蝕層，也即在蓋本體的至少一側(cè)表面通過激光刻蝕的方法，在蓋本體的至少一側(cè)表面形成具有凹凸結(jié)構(gòu)的激光刻蝕層，從而使得親水層表現(xiàn)為親水的表面特性。

51、或者，親水層包括化學(xué)沉積層，也即在蓋本體的至少一側(cè)表面通過化學(xué)沉積或電化學(xué)沉積的方法，在蓋本體的至少一側(cè)表面形成具有凹凸結(jié)構(gòu)的化學(xué)沉積層，從而使得親水層表現(xiàn)為親水的表面特性。

52、或者，親水層包括機(jī)械加工層，也即在蓋本體的至少一側(cè)表面通過機(jī)械加工的方法，在蓋本體的至少一側(cè)表面形成具有凹凸結(jié)構(gòu)的機(jī)械加工層，從而使得親水層表現(xiàn)為親水的表面特性。

53、根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)方面，提供了一種烹飪器具，包括如上述任一技術(shù)方案提供的蓋體，因而具備該蓋體的全部有益技術(shù)效果，在此不再贅述。

54、進(jìn)一步地，烹飪器具還包括器具本體，器具本體設(shè)有烹飪腔，蓋體被配置為適于蓋設(shè)在器具本體上，親水層設(shè)于蓋本體朝向烹飪腔的一側(cè)表面上。

55、本發(fā)明實(shí)施例提供的烹飪器具包括器具本體和蓋體，具體而言，器具本體設(shè)置有烹飪腔，蓋體適于蓋設(shè)在器具本體上，也就是說，當(dāng)蓋體蓋設(shè)在器具本體上時(shí)，蓋體能夠封閉烹飪腔，以防止烹飪器具在工作狀態(tài)下，烹飪腔內(nèi)的蒸汽散失，確保烹飪器具的加熱效果。

56、親水層設(shè)置在蓋本體朝向烹飪腔的一側(cè)表面上，也就是說，蓋本體的內(nèi)表面設(shè)有親水層，且親水層為具有凹凸結(jié)構(gòu)的粗糙層，從而使得親水層表現(xiàn)為親水的表面狀態(tài)。

57、具體地，當(dāng)烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體時(shí)，會(huì)形成冷凝水，由于蓋本體設(shè)有親水層，且親水層具有凹凸結(jié)構(gòu)，從而使得冷凝水在親水層的表面潤(rùn)濕并快速擴(kuò)散形成液膜，而不會(huì)形成水滴直接滴落到烹飪腔內(nèi)的食材上，進(jìn)而確保食材的烹飪效果和外觀。

58、而且，蓋本體的至少一部分傾斜設(shè)置，從而使得冷凝在親水層上的冷凝水在親水層的表面擴(kuò)散形成液膜后，能夠沿著親水層流下，也就是說，當(dāng)蓋體的內(nèi)側(cè)聚集了大量冷凝水后，由于蓋本體傾斜，使得冷凝水能夠沿著親水層的表面流下排出，防止蓋體內(nèi)側(cè)冷凝水的量較大時(shí)滴落到食材上，進(jìn)一步確保食材烹飪后的口感和外觀，且還能夠防止在開蓋時(shí)蓋體內(nèi)側(cè)的高溫冷凝水燙傷用戶，提高烹飪器具的使用安全。

59、可選地，烹飪器具包括蒸鍋、電飯煲、豆?jié){機(jī)或破壁機(jī)等。

60、另外，根據(jù)本發(fā)明上述技術(shù)方案提供的烹飪器具，還具有如下附加技術(shù)特征：

61、在一些技術(shù)方案中，可選地，器具本體朝向蓋體的一側(cè)還設(shè)有排水槽，在蓋體蓋設(shè)于器具本體的情況下，排水槽位于親水層靠近烹飪腔的一側(cè)，親水層上的液體能夠沿著親水層流入排水槽內(nèi)。

62、在該技術(shù)方案中，限定了器具本體朝向蓋體的一側(cè)還設(shè)置有排水槽，具體而言，在蓋體蓋設(shè)在器具本體上以封閉烹飪腔的情況下，排水槽位于親水層靠近烹飪腔的一側(cè)，也就是說，排水槽位于親水層的內(nèi)側(cè)。

63、親水層上的液體能夠沿著親水層流入排水槽內(nèi)，具體地，在烹飪器具工作過程中，烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體內(nèi)表面時(shí)，在蓋體內(nèi)表面形成冷凝水，即在親水層上形成冷凝水。

64、由于親水層具有親水性，冷凝水在親水層上潤(rùn)濕并擴(kuò)散，而不會(huì)形成水滴滴落。且由于蓋本體的一部分傾斜，使得親水層上的冷凝水能夠沿著親水層的表面流下，進(jìn)入排水槽內(nèi)，也就是說，通過設(shè)置排水槽收集冷凝在親水層上的冷凝水，從而能夠在防止冷凝水滴落到食材的同時(shí)，可以通過排水槽實(shí)現(xiàn)冷凝水的排出，防止用戶在開蓋時(shí)，出現(xiàn)殘留冷凝水滑落到臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

65、可選地，排水槽的寬度大于或等于2mm，確保排水槽能夠?qū)τH水層上冷凝水進(jìn)行收集的同時(shí)，防止排水槽內(nèi)的冷凝水溢出到食材上，進(jìn)一步確保食材烹飪后的口感和外觀。

66、在一些技術(shù)方案中，可選地，烹飪器具還包括至少一個(gè)排水口，至少一個(gè)排水口設(shè)于器具本體，并與排水槽連通；其中，排水槽包括引水部，排水槽內(nèi)的液體能夠在引水部的引導(dǎo)下流向至少一個(gè)排水口處。

67、在該技術(shù)方案中，限定了烹飪器具還包括至少一個(gè)排水口，具體而言，至少一個(gè)排水口與排水槽連通。可以理解的是，自親水層上流入排水槽內(nèi)的冷凝水，通過至少一個(gè)排水口排出排水槽，從而防止用戶在開蓋時(shí)，出現(xiàn)殘留冷凝水滑落到臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

68、而且，通過設(shè)置至少一個(gè)排水口排出排水槽內(nèi)的冷凝水，還可以防止排水槽內(nèi)由于貯水而溢出到食材上，進(jìn)一步提高食材的烹飪效果。以及防止排水槽內(nèi)由于貯水，使得部分冷凝水附著在蓋體的底部，在開蓋時(shí)灑落到臺(tái)面上。

69、排水槽包括引水部，具體地，排水槽內(nèi)的液體能夠在引水部的引導(dǎo)下流向至少一個(gè)排水口處，有利于實(shí)現(xiàn)排水槽內(nèi)的冷凝水的快速排出，防止排水槽貯水，進(jìn)一步提高食材的烹飪效果和外觀，提升用戶的使用體驗(yàn)。

70、在一些技術(shù)方案中，可選地，引水部包括第一端和第二端，第一端相較于第二端靠近至少一個(gè)排水口設(shè)置；其中，沿器具本體的高度方向，引水部的第一端低于引水部的第二端。

71、在該技術(shù)方案中，限定了引水部包括第一端和第二端，具體而言，引水部的第一端相較于引水部的第二端靠近排水口設(shè)置，且沿器具本體的高度方向，引水部的第一端低于引水部的第二端，也就是說，引水部為傾斜狀態(tài)，且向至少一個(gè)排水口的方向傾斜，從而能夠促進(jìn)排水槽內(nèi)的冷凝水向至少一個(gè)排水口的方向流動(dòng)，有利于排水槽內(nèi)冷凝水的快速排出，防止排水槽內(nèi)由于貯水而溢出到食材上，確保食材的烹飪效果，且還能夠防止排水槽由于貯水而附著在蓋體底部邊緣上，進(jìn)而在開蓋時(shí)灑落到臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

72、在一些技術(shù)方案中，可選地，沿器具本體的高度方向，引水部的第二端與引水部的第一端之間的高度差h滿足h≥1mm。

73、在該技術(shù)方案中，限定了沿器具本體的高度方向，引水部的第二端與引水部的第一端之間的高度差大于或等于1mm，即增大引水部的傾斜角度，促進(jìn)排水槽內(nèi)的冷凝水快速流向至少一個(gè)排水口并排出，防止排水槽貯水，從而防止排水槽內(nèi)由于貯水而溢出到食材上，確保食材的烹飪效果，且還能夠防止排水槽由于貯水而附著在蓋體底部邊緣上，進(jìn)而在開蓋時(shí)灑落到臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

74、在一些技術(shù)方案中，可選地，引水部的數(shù)量為多個(gè)，至少一個(gè)排水口位于相鄰兩個(gè)引水部之間。

75、在該技術(shù)方案中，限定了引水部的數(shù)量為多個(gè)，具體而言，至少一個(gè)排水口位于相鄰的兩個(gè)引水部之間。可以理解的是，每個(gè)引水部包括一個(gè)第一端和一個(gè)第二端?；蛘撸總€(gè)引水部包括兩個(gè)第一端和一個(gè)第二端，也就是說，每個(gè)引水部包括一個(gè)最高點(diǎn)和至少一個(gè)最低點(diǎn)。

76、也就是說，相鄰兩個(gè)引水部的最高點(diǎn)之間具有至少一個(gè)排水口，從而能夠在促進(jìn)排水槽內(nèi)的冷凝水向至少一個(gè)排水口的方向流動(dòng)，有利于排水槽內(nèi)冷凝水快速排出的同時(shí)，進(jìn)一步防止排水槽內(nèi)貯水，從而防止排水槽內(nèi)由于貯水而溢出到食材上，確保食材的烹飪效果，且還能夠防止排水槽由于貯水而附著在蓋體底部邊緣上，進(jìn)而在開蓋時(shí)灑落到臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

77、在一些技術(shù)方案中，可選地，器具本體還設(shè)有容置平臺(tái)，容置平臺(tái)位于排水槽的外側(cè)，在蓋體蓋設(shè)于器具本體的情況下，蓋體朝向器具本體的一端與容置平臺(tái)相接觸。

78、在該技術(shù)方案中，限定了器具本體還設(shè)有容置平臺(tái)，具體而言，容置平臺(tái)位于排水槽的外側(cè)，也就是說，當(dāng)蓋體蓋設(shè)在器具本體上時(shí)，排水槽位于親水層的內(nèi)側(cè)，親水層上的液體能夠沿著親水層流入排水槽內(nèi)，具體地，在烹飪器具工作過程中，烹飪腔內(nèi)的蒸汽接觸到溫度較低的蓋體內(nèi)表面時(shí)，在蓋體內(nèi)表面形成冷凝水，即在親水層上形成冷凝水。

79、由于親水層具有親水性，冷凝水在親水層上潤(rùn)濕并擴(kuò)散，而不會(huì)形成水滴滴落。且由于蓋本體的一部分傾斜，使得親水層上的冷凝水能夠沿著親水層的表面流下，進(jìn)入排水槽內(nèi)，也就是說，通過設(shè)置排水槽收集冷凝在親水層上的冷凝水，從而能夠在防止冷凝水滴落到食材的同時(shí)，可以通過排水槽實(shí)現(xiàn)冷凝水的排出，防止用戶在開蓋時(shí)，出現(xiàn)殘留冷凝水滑落到臺(tái)面上，提升用戶的使用體驗(yàn)。

80、當(dāng)蓋體蓋設(shè)在器具本體上時(shí)，蓋體的底端邊緣與容置平臺(tái)相接觸，也就是說，蓋體的底端邊緣與平面相貼合，從而可以避免將蓋體放置在不平整的表面上而發(fā)生晃動(dòng)，或者由于蓋體底端邊緣與表面的配合存在間隙或缺口，使得烹飪腔內(nèi)的蒸汽溢出，進(jìn)而提高烹飪器具的安全性，確保烹飪器具的加熱效果。

81、可選地，器具本體還設(shè)有限位部，具體而言，限位部設(shè)置在容置平臺(tái)背離排水槽的一側(cè)。在將蓋體蓋設(shè)在器具本體上時(shí)，即將蓋體底端邊緣與容置平臺(tái)相接觸時(shí)，通過限位部對(duì)蓋體進(jìn)行限位，防止蓋體發(fā)生晃動(dòng)或偏移而導(dǎo)致烹飪腔內(nèi)的蒸汽發(fā)生泄漏的問題，進(jìn)一步提高烹飪器具的使用安全性，提高加熱效率。

82、可選地，器具本體還設(shè)有導(dǎo)向壁，具體而言，導(dǎo)向壁位于排水槽內(nèi)，導(dǎo)向壁傾斜設(shè)置，也就是說，排水槽靠近容置平臺(tái)的槽側(cè)壁傾斜設(shè)置，從而能夠?qū)淠哂袑?dǎo)向的作用，引導(dǎo)親水層上的冷凝水流下后進(jìn)入排水槽內(nèi)，而不是附著在蓋體底部邊緣上，進(jìn)而在開蓋時(shí)，防止出現(xiàn)殘留冷凝水滑落到臺(tái)面上，進(jìn)一步提升用戶的使用體驗(yàn)。

83、可選地，導(dǎo)向壁與水平面的夾角大于或等于30°，并小于90°，確保導(dǎo)向壁對(duì)冷凝水的引導(dǎo)作用。

84、可選地，沿器具本體的高度方向，引水部的第二端所在的高度h1與容置平臺(tái)所在的高度h2之間，滿足h2≥h1，從而能夠在實(shí)現(xiàn)冷凝水在引水部的引導(dǎo)下快速流向至少一個(gè)排水口排出的同時(shí)，確保流到容置平臺(tái)上的冷凝水能夠流入排水槽內(nèi)，進(jìn)一步防止貯水。

85、在一些技術(shù)方案中，可選地，器具本體包括機(jī)座組件、蒸籠和蒸架，其中，機(jī)座組件設(shè)有蒸汽發(fā)生件，蒸汽發(fā)生件與烹飪腔連通，蒸籠設(shè)于機(jī)座組件上，蓋體適于蓋設(shè)在蒸籠或機(jī)座組件上，蒸架設(shè)于蒸籠和/或機(jī)座組件上，并位于烹飪腔內(nèi)；排水槽設(shè)于機(jī)座組件和/或蒸籠上。

86、在該技術(shù)方案中，限定了器具本體包括機(jī)座組件、蒸籠和蒸架，具體而言，機(jī)座組件設(shè)置有蒸汽發(fā)生件，可以理解的是，當(dāng)烹飪器具工作時(shí)，蒸汽發(fā)生件能夠產(chǎn)生蒸汽，從而通過蒸汽對(duì)烹飪腔內(nèi)的食材進(jìn)行加熱烹飪。

87、蒸籠設(shè)置在機(jī)座組件上，具體地，蒸籠可拆卸地設(shè)置在機(jī)座組件上，從而可以根據(jù)待烹飪食材的量選擇是否放置蒸籠?？蛇x地，蒸籠的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)蒸籠沿器具本體的高度方向排布，即可以根據(jù)待烹飪食材的量選擇單層蒸籠或多層蒸籠。

88、可以理解的是，當(dāng)不放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在機(jī)座組件上，蒸架放置在機(jī)座組件上，當(dāng)放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在位于最頂層的蒸籠上，蒸架放置在機(jī)座組件或蒸籠上，或者，機(jī)座組件和蒸籠上均放置蒸架。具體可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)置。

89、排水槽設(shè)置在機(jī)座組件和/或蒸籠上。具體地，當(dāng)不放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在機(jī)座組件上，由于機(jī)座組件上設(shè)置排水槽，從而可以對(duì)蓋體內(nèi)表面的冷凝水進(jìn)行收集。

90、當(dāng)放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在最頂層的蒸籠上，由于蒸籠上設(shè)置排水槽，從而可以對(duì)蓋體內(nèi)表面的冷凝水進(jìn)行收集。

91、此外，在放置蒸籠的情況下，機(jī)座組件上也可以設(shè)置排水槽。具體地，蓋體內(nèi)表面的冷凝水流入蒸籠上的排水槽后，通過蒸籠上的至少一個(gè)排水口排出，沿著蒸籠的內(nèi)壁流向機(jī)座組件上的排水槽內(nèi)，并通過機(jī)座組件上的至少一個(gè)排水口排至機(jī)座組件的接水盤內(nèi)，實(shí)現(xiàn)冷凝水的集中收集處理，防止貯水。

92、可選地，蒸汽發(fā)生件包括加熱裝置和水箱，加熱裝置能夠?qū)λ鋬?nèi)的水進(jìn)行加熱，以產(chǎn)生蒸汽。

93、在一些技術(shù)方案中，可選地，機(jī)座組件包括底座和接水盤，其中，蒸汽發(fā)生件設(shè)于底座，接水盤設(shè)于底座朝向蓋體的一側(cè)，并與排水槽連通；其中，在排水槽設(shè)于機(jī)座組件的情況下，排水槽設(shè)于接水盤上。

94、在該技術(shù)方案中，限定了機(jī)座組件包括底座和接水盤，具體而言，蒸汽發(fā)生件設(shè)置在底座上，接水盤設(shè)置在底座朝向蓋體的一側(cè)，且接水盤與接水槽連通。

95、當(dāng)放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在最頂層的蒸籠上，接水盤和蒸籠上均設(shè)有排水槽。具體地，蓋體內(nèi)表面的冷凝水流入蒸籠上的排水槽后，通過蒸籠上的至少一個(gè)排水口排出，沿著蒸籠的內(nèi)壁流向接水盤上的排水槽內(nèi)，并通過接水盤上的至少一個(gè)排水口排至接水盤的收集腔內(nèi)，實(shí)現(xiàn)冷凝水的集中收集處理，防止貯水。

96、當(dāng)不放置蒸籠時(shí)，蓋體蓋設(shè)在接水盤上，由于接水盤上設(shè)置排水槽，從而可以對(duì)蓋體內(nèi)表面的冷凝水進(jìn)行收集。

97、可選地，接水盤可取放地設(shè)置在底座上，便于在接水盤收集冷凝水達(dá)到一定量后，從底座上取下處理冷凝水。

98、根據(jù)本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述部分中給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。