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葉型設(shè)計的方法、裝置、設(shè)備及計算機存儲介質(zhì)與流程

文檔序號:42327294發(fā)布日期:2025-07-01 19:47閱讀:13來源:國知局

本公開涉及葉片設(shè)計領(lǐng)域,尤其涉及一種葉型設(shè)計的方法、裝置、設(shè)備及計算機存儲介質(zhì)。


背景技術(shù):

1、目前,葉片被廣泛地應(yīng)用于多個技術(shù)領(lǐng)域中,尤其被廣泛地應(yīng)用于航空發(fā)動機、風(fēng)力渦輪機以及泵等流體機械領(lǐng)域中。葉片的葉型會直接影響葉片的機械性能以及流體流動的效率。

2、在對葉片的葉型進行設(shè)計的過程中,需要一種既能夠提高葉型開發(fā)效率,又可以提升葉型性能的設(shè)計方案。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開提供了一種葉型設(shè)計的方法、裝置、設(shè)備及計算機存儲介質(zhì);能夠在提高葉型設(shè)計效率的同時,提升了設(shè)計出的葉型的工況性能。

2、本公開的技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的:

3、第一方面,本公開提供了一種葉型設(shè)計的方法,所述方法包括:

4、利用第一葉型方案形成葉片的第一葉型;

5、基于氣動性能指標(biāo)對所述第一葉型進行優(yōu)化,得到優(yōu)化后的第一葉型;

6、利用第二葉型方案中的設(shè)計參數(shù)描述優(yōu)化后的第一葉型,以得到第二葉型;其中,所述第二葉型方案的復(fù)雜度高于所述第一葉型方案;

7、對所述第二葉型進行優(yōu)化,形成所述葉片的最優(yōu)葉型。

8、第二方面,本公開提供了一種葉型設(shè)計的裝置,所述裝置包括:形成部分、第一優(yōu)化部分、轉(zhuǎn)換部分和第二優(yōu)化部分,其中,

9、所述形成部分,被配置成利用第一葉型方案形成葉片的第一葉型;

10、所述第一優(yōu)化部分,被配置成基于氣動性能指標(biāo)對所述第一葉型進行優(yōu)化,得到優(yōu)化后的第一葉型;

11、所述轉(zhuǎn)換部分,被配置成利用第二葉型方案中的設(shè)計參數(shù)描述優(yōu)化后的第一葉型,以得到第二葉型;其中,所述第二葉型方案的復(fù)雜度高于所述第一葉型方案;

12、所述第二優(yōu)化部分,被配置成對所述第二葉型進行優(yōu)化,形成所述葉片的最優(yōu)葉型。

13、第三方面,本公開提供了一種計算設(shè)備,所述計算設(shè)備包括處理器和存儲器;所述處理器用于執(zhí)行所述存儲器中存儲的指令,以實現(xiàn)如第一方面所述的葉型設(shè)計的方法。

14、第四方面,本公開提供了一種計算機存儲介質(zhì),所述存儲介質(zhì)存儲有至少一條指令,所述至少一條指令用于被處理器執(zhí)行以實現(xiàn)如第一方面所述的葉型設(shè)計的方法。

15、本公開提供了一種葉型設(shè)計的方法、裝置、設(shè)備及計算機存儲介質(zhì);首先通過復(fù)雜度較低的第一葉型方案得到葉片的第一葉型并進行優(yōu)化,從而快速地排除大量的非最優(yōu)區(qū)域以找到初步的較為優(yōu)選的葉型。接著利用復(fù)雜度較高的第二葉型方案在優(yōu)化后的第一葉型的基礎(chǔ)上進一步的優(yōu)化,而非在原始的葉片的基礎(chǔ)上進行優(yōu)化,從而在提高葉型設(shè)計效率的同時,提升了葉片的氣動性能指標(biāo)。



技術(shù)特征:

1.一種葉型設(shè)計的方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于氣動性能指標(biāo)對所述第一葉型進行優(yōu)化,得到優(yōu)化后的第一葉型,包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,所述通過對第一葉型進行流場計算優(yōu)化以評估氣動性能指標(biāo),并根據(jù)氣動性能指標(biāo)對雙圓弧葉型的設(shè)計參數(shù)進行迭代調(diào)整,得到優(yōu)化后的第一葉型,包括:

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項所述的方法,其特征在于,所述第一葉型方案包括雙圓弧葉型,所述第二葉型方案包括貝塞爾曲線參數(shù)葉型。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,所述將所述優(yōu)化后的第一葉型轉(zhuǎn)換為由第二葉型方案描述的第二葉型,包括:

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述根據(jù)m個第一采樣點利用貝塞爾曲線插值算法構(gòu)造階貝塞爾曲線,包括:

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其特征在于,所述獲取所述階貝塞爾曲線與所述第一采樣點之間的均方根誤差,包括:

8.一種葉型設(shè)計的裝置,其特征在于,所述裝置包括:形成部分、第一優(yōu)化部分、轉(zhuǎn)換部分和第二優(yōu)化部分,其中,

9.一種計算設(shè)備,其特征在于,所述計算設(shè)備包括處理器和存儲器;所述處理器用于執(zhí)行所述存儲器中存儲的指令,以實現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任一所述的葉型設(shè)計的方法。

10.一種計算機存儲介質(zhì),其特征在于,所述存儲介質(zhì)存儲有至少一條指令,所述至少一條指令用于被處理器執(zhí)行以實現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任一所述的葉型設(shè)計的方法。


技術(shù)總結(jié)
本公開提供了一種葉型設(shè)計的方法、裝置、設(shè)備及計算機存儲介質(zhì),涉及葉片設(shè)計領(lǐng)域;該方法包括:利用第一葉型方案形成葉片的第一葉型;基于氣動性能指標(biāo)對第一葉型進行優(yōu)化,得到優(yōu)化后的第一葉型;利用第二葉型方案中的設(shè)計參數(shù)描述所述優(yōu)化后的第一葉型,以得到第二葉型;對第二葉型進行優(yōu)化,形成葉片的最優(yōu)葉型。本公開能夠在提高葉型設(shè)計效率的同時,提升了設(shè)計出的葉型的工況性能。

技術(shù)研發(fā)人員:程冰潔,劉馳,李強,魏征
受保護的技術(shù)使用者:陜西空天信息技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/6/30
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