本申請涉及流體控制，具體涉及一種流體控制組件。
背景技術：
1、流體控制組件包括流道板和閥組件，至少部分閥組件位于流道板的安裝腔，閥芯組件能夠運動以控制流道板內流道的連通關系，流道內流通的流體通常包括一些雜質，如果沉積的雜質堆積后影響閥芯組件的運動，則會影響閥組件的正常運行。
技術實現(xiàn)思路
1、本申請的目的在于提供一種流體控制組件，有利于降低流體中的雜質對閥組件的影響。
2、為實現(xiàn)上述目的，本申請的一個實施方式采用如下技術方案：
3、一種流體控制組件，包括基體和閥組件，所述基體具有容納腔，至少部分所述閥組件位于所述容納腔，所述容納腔具有第一口，所述基體具有流道，定義第一方向，所述第一方向與重力方向的夾角為直角或銳角，至少部分所述流道自所述第一口沿第一方向延伸。
4、本申請的一個實施方式提供的一種流體控制組件，至少部分閥組件位于基體的容納腔，定義第一方向，第一方向與重力方向的夾角為直角或銳角，至少部分基體的流道自第一口沿第一方向延伸，任意一個流道的至少部分沿第一方向延伸，能夠使得流經(jīng)閥部件的流體沉積在基體的流道內，有利于降低流體中的雜質對閥組件的影響。
1.一種流體控制組件，包括基體(10)和閥組件(27)，所述基體(10)具有容納腔(13)，至少部分所述閥組件(27)位于所述容納腔(13)，所述容納腔(13)具有第一口(13a)，所述基體(10)具有流道(12)，定義第一方向，所述第一方向與重力方向(g)的夾角為直角或銳角，至少部分所述流道(12)自所述第一口(13a)沿第一方向延伸。
2.根據(jù)權利要求1所述的流體控制組件，其特征在于，所述容納腔(13)具有第二口(13b)，所述流道(12)包括第一流道(1210)和第二流道(1220)，所述第一口(13a)與所述第一流道(1210)連通，所述第二口(13b)與所述第二流道(1220)連通，所述第一口(13a)為進口，所述第二口(13b)為出口，至少部分所述第一流道(1210)自所述第一口(13a)沿第一方向延伸，至少部分所述第二流道(1220)自所述第二口(13b)沿第一方向延伸。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的流體控制組件，其特征在于，所述第一口(13a)為進口，所述流道(12)包括第一流道(1210)，所述第一流道(1220)與所述第一口(13a)連通，沿重力方向(g)，至少部分所述第一流道(1220)位于所述容納腔(13)的上方，所述容納腔(13)的中軸線與重力方向(g)呈10-170度角度設置，所述第一口(13a)位于形成所述容納腔(13)的周側壁，沿重力方向(g)，所述第一口(13a)的開口方向為水平方向或者朝向重力方向(g)。
4.根據(jù)權利要求1-3任一所述的流體控制組件，其特征在于，所述流道(12)沿至少兩個方向延伸，所述流道(12)包括第一分段(1221)和第二分段(1222)，所述第一分段(1221)沿第一子方向(s1)延伸，所述第二分段(1222)沿第二子方向延伸，所述第一子方向與重力方向(g)的夾角與所述第二子方向與重力方向(g)的夾角不同。
5.根據(jù)權利要求1-4任一所述的流體控制組件，其特征在于，所述容納腔(13)具有第二口(13b)，沿重力方向，所述第二口(13b)不低于所述第一口(13a)，所述第二口(13b)與所述第一口(13a)位于同一水平高度，或至少部分所述第一口(13a)位于所述第二口(13b)的下方。
6.根據(jù)權利要求1-5任一所述的流體控制組件，其特征在于，所述第一口(13a)為進口，所述流道(12)包括沉積腔(14)，所述沉積腔(14)靠近所述第一口(13a)，至少部分所述流道(12)沿徑向延伸形成所述沉積腔(14)。
7.根據(jù)權利要求1-6任一所述的流體控制組件，其特征在于，所述閥組件(27)包括第一閥(271)和第二閥(272)，所述容納腔(13)包括第一容納腔(131)和第二容納腔(132)，至少部分所述第一閥(271)位于所述第一容納腔(131)，至少部分所述第二閥(272)位于所述第二容納腔(132)，在一種工作模式下，所述第一閥(271)打開，所述第二閥(272)關閉，沿重力方向，所述第二容納腔(132)的進口位于所述第一容納腔(131)的進口或出口的上方。
8.根據(jù)權利要求7所述的流體控制組件，其特征在于，所述流道(12)包括第一流道(1210)，所述第一閥(271)和所述第二閥(272)并聯(lián)設置，所述第一容納腔(131)的進口與所述第二容納腔(132)的進口均與所述第一流道(1220)連通，沿重力方向，所述第二容納腔(132)的進口位于所述第一容納腔(131)的進口的上方。