本公開(kāi)涉及用于制造電子器件的方法和裝置。更具體地，本公開(kāi)涉及在處理期間去除金屬性部件上的原子層沉積涂層的系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
1、在集成器件的制造中，例如通過(guò)化學(xué)氣相沉積(cvd)或原子層沉積(ald)，在反應(yīng)室或反應(yīng)器中的襯底上沉積或形成薄層。在這些沉積過(guò)程中，沉積的層也沉積在其它表面上，例如在反應(yīng)室的內(nèi)部?jī)?nèi)的部件、反應(yīng)室的壁和反應(yīng)室內(nèi)的其它暴露(例如潤(rùn)濕)表面上。隨著時(shí)間的推移，這些通常被稱為“寄生層”的層累積并堆積，最終從反應(yīng)室內(nèi)的潤(rùn)濕表面剝落、脫落和/或剝離顆粒。落在襯底表面上的顆粒(例如落在表面上或被氣流攜帶)會(huì)導(dǎo)致制造過(guò)程中的問(wèn)題，例如降低過(guò)程的產(chǎn)量和/或再現(xiàn)性。定期清除反應(yīng)室中的污染物可以減少這些問(wèn)題。
2、清潔反應(yīng)室內(nèi)的部件的一種方法是通過(guò)使用一個(gè)或多個(gè)合適蝕刻劑清潔循環(huán)的原位蝕刻循環(huán)。然而，在一些情況下，原位蝕刻表現(xiàn)出一個(gè)或多個(gè)缺點(diǎn)，例如顯著蝕刻反應(yīng)室內(nèi)的部件。因此，在一些情況下，原位清潔是不可行的。
3、清潔反應(yīng)室內(nèi)的部件的另一種選擇是非原位清潔，其中被污染的部件從維護(hù)中取出進(jìn)行清潔?！皣娡杼幚怼笔峭ㄟ^(guò)機(jī)械磨損的非原位清潔形式，其中，例如氧化鋁、氧化鋯、玻璃、二氧化硅、碳化硅(sic)或其它合適材料的磨料流沖擊待清潔表面，例如使用高壓流體流。噴丸處理有若干缺點(diǎn)，例如清潔過(guò)程會(huì)對(duì)反應(yīng)室部件造成損壞，從而降低它們的壽命。噴丸處理是“視線”過(guò)程，導(dǎo)致難以清潔高縱橫比部件。由于不能目視監(jiān)測(cè)污染物的去除，終點(diǎn)是不明顯的，從而當(dāng)污染物被去除并到達(dá)下面的材料時(shí)；有可能遺漏污染區(qū)域。噴丸處理還會(huì)導(dǎo)致研磨材料污染清潔過(guò)的零件。與研磨材料一樣硬或比研磨材料更硬的污染物不容易通過(guò)噴丸處理去除。噴丸處理還會(huì)帶來(lái)過(guò)高的成本和較低的再現(xiàn)性。因此，需要用于反應(yīng)室內(nèi)的改進(jìn)部件，以及形成和利用改進(jìn)部件的方法。
4、本部分中闡述的任何討論，包括對(duì)問(wèn)題和解決方案的討論，已經(jīng)包括在本公開(kāi)中，僅僅是為了提供本公開(kāi)的背景。這種討論不應(yīng)被視為承認(rèn)任何或所有信息在本發(fā)明被做出時(shí)是已知的，或者構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
可以簡(jiǎn)化的形式介紹一些概念，這將在下面進(jìn)一步詳細(xì)描述。本發(fā)明內(nèi)容不旨在必要地標(biāo)識(shí)所要求保護(hù)的主題的關(guān)鍵特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保護(hù)的主題的范圍。
2、提供了一種從包含鈦的金屬性部件去除原子層沉積(ald)涂層的方法，該方法包括：預(yù)處理包含殘余涂層的金屬性部件，以為化學(xué)底切提供更大表面積；將金屬性部件浸入清潔化學(xué)溶液中；以及攪動(dòng)清潔化學(xué)溶液以加速清潔化學(xué)溶液和殘余涂層之間的反應(yīng)。
3、在一些實(shí)施例中，預(yù)處理金屬性部件還包括執(zhí)行熱沖擊、激光刻劃、機(jī)械刻劃和高壓噴涂過(guò)程中的至少一種。
4、在一些實(shí)施例中，攪動(dòng)清潔化學(xué)溶液還包括：在第一壓力值下開(kāi)始循環(huán)加壓；改變清潔化學(xué)溶液的壓力，直到第一壓力值等于第二壓力值；改變清潔化學(xué)溶液的壓力，直到第二壓力值等于第一壓力值；在第一壓力值和第二壓力值之間振蕩確定數(shù)量循環(huán)；以及在完成確定數(shù)量循環(huán)后，從清潔化學(xué)溶液中移除金屬性部件。
5、在一些實(shí)施例中，該方法還包括：在清潔化學(xué)溶液達(dá)到第二壓力值后，將金屬性部件浸泡在清潔化學(xué)溶液中給定的時(shí)間持續(xù)；以及在清潔化學(xué)溶液達(dá)到第一壓力值之后，將金屬性部件浸泡在清潔化學(xué)溶液中給定的時(shí)間持續(xù)。
6、在一些實(shí)施例中，第一壓力值和第二壓力值之間的差是300磅每平方英寸(psi)。
7、在一些實(shí)施例中，改變清潔化學(xué)溶液的壓力包括改變清潔化學(xué)溶液的溫度。
8、在一些實(shí)施例中，循環(huán)加壓還包括在清潔化學(xué)溶液中溶解氣態(tài)成分以影響清潔化學(xué)溶液的壓力。
9、在一些實(shí)施例中，攪動(dòng)清潔化學(xué)溶液還包括超聲波處理、噴射和流通清潔化學(xué)溶液中的至少一種。
10、在一些實(shí)施例中，流通還包括利用噴射器噴嘴來(lái)提高清潔化學(xué)溶液的流量。
11、在一些實(shí)施例中，該方法還包括，通過(guò)執(zhí)行動(dòng)力清洗、化學(xué)浸漬和擦洗中的至少一種來(lái)后處理金屬性部件，以去除清潔化學(xué)溶液和金屬性部件之間的反應(yīng)中殘留的副產(chǎn)物。
12、在一些實(shí)施例中，該方法還包括：在攪動(dòng)后從清潔化學(xué)溶液中移除金屬性部件；檢查金屬性部件以確定是否有任何殘余涂層保持沉積在金屬性部件上；以及當(dāng)確定殘余涂層保持沉積在金屬性部件上時(shí)，將金屬性部件浸入清潔化學(xué)溶液中并對(duì)金屬性部件進(jìn)行攪動(dòng)。
13、在一些實(shí)施例中，攪動(dòng)清潔化學(xué)溶液還包括將清潔化學(xué)溶液加熱到清潔化學(xué)溶液的沸點(diǎn)。
14、在一些實(shí)施例中，清潔化學(xué)溶液是堿性清潔化學(xué)溶液。
15、提供了一種清潔系統(tǒng)，該清潔系統(tǒng)包括：預(yù)處理部件，其中預(yù)處理部件配置成在金屬性部件上產(chǎn)生斷層線邊界，其中金屬性部件包括從先前沉積過(guò)程殘留的殘余涂層。清潔系統(tǒng)還包括聯(lián)接到預(yù)處理部件的清潔裝置，其中清潔裝置還包括壓力容器和清潔化學(xué)溶液，其中清潔化學(xué)溶液填充壓力容器的至少一部分，并且其中清潔化學(xué)溶液配置為與金屬性部件的殘余涂層反應(yīng)并從金屬性部件去除殘余涂層。清潔系統(tǒng)還包括聯(lián)接到清潔裝置的檢查部件，其中檢查部件配置成確定在預(yù)處理和清潔過(guò)程之后殘余涂層是否保持沉積在金屬性部件上。
16、在一些實(shí)施例中，預(yù)處理部件配置成執(zhí)行熱沖擊、激光刻劃、機(jī)械刻劃和高壓噴涂過(guò)程中的至少一種。
17、在一些實(shí)施例中，清潔化學(xué)溶液包括堿性清潔化學(xué)溶液。
18、在一些實(shí)施例中，清潔裝置還包括壓力控制裝置，其中壓力控制裝置配置成在確定數(shù)量循環(huán)中使壓力容器內(nèi)的壓力在起始?jí)毫χ岛推谕麎毫χ抵g波動(dòng)。
19、在一些實(shí)施例中，清潔系統(tǒng)還包括后處理部件，其中后處理部件配置成去除在清潔化學(xué)溶液和殘余涂層之間反應(yīng)之后殘留在金屬性部件上的副產(chǎn)物。
20、在一些實(shí)施例中，后處理部件配置成執(zhí)行動(dòng)力清洗、化學(xué)浸漬和擦洗過(guò)程中的至少一種。
21、提供了一種清潔裝置，該清潔裝置包括：壓力容器；封閉在壓力容器內(nèi)的清潔化學(xué)溶液；具有殘余涂層的金屬性部件，其中金屬性部件浸入清潔化學(xué)溶液中；其中，壓力容器配置成使壓力容器內(nèi)的壓力在第一壓力值和第二壓力值之間振蕩；并且其中，清潔化學(xué)溶液配置成蝕刻殘余涂層。
22、通過(guò)參考附圖對(duì)某些實(shí)施例的以下詳細(xì)描述，這些及其他實(shí)施例對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將變得顯而易見(jiàn)。本公開(kāi)不限于所公開(kāi)的任何特定實(shí)施例。
1.一種從包含鈦的金屬性部件去除原子層沉積(ald)涂層的方法，該方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，預(yù)處理所述金屬性部件還包括執(zhí)行熱沖擊、激光刻劃、機(jī)械刻劃和高壓噴涂過(guò)程中的至少一種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，攪動(dòng)所述清潔化學(xué)溶液還包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，還包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述第一壓力值和第二壓力值之間的差是300磅每平方英寸(psi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，改變所述清潔化學(xué)溶液的壓力包括改變清潔化學(xué)溶液的溫度。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，所述循環(huán)加壓還包括將氣態(tài)成分溶解在所述清潔化學(xué)溶液中，以影響清潔化學(xué)溶液的壓力。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，攪動(dòng)所述清潔化學(xué)溶液還包括超聲波處理、噴射和流通清潔化學(xué)溶液中的至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中，流通還包括利用噴射器噴嘴來(lái)提高所述清潔化學(xué)溶液的流量。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括通過(guò)執(zhí)行動(dòng)力清洗、化學(xué)浸漬和擦洗中的至少一種來(lái)后處理所述金屬性部件，以去除在所述清潔化學(xué)溶液和金屬性部件之間的反應(yīng)中殘留的副產(chǎn)物。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括：
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，攪動(dòng)所述清潔化學(xué)溶液還包括將清潔化學(xué)溶液加熱至清潔化學(xué)溶液的沸點(diǎn)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述清潔化學(xué)溶液是堿性清潔化學(xué)溶液。
14.一種清潔系統(tǒng)，包括：
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的清潔系統(tǒng)，其中，所述預(yù)處理部件配置成執(zhí)行熱沖擊、激光刻劃、機(jī)械刻劃和高壓噴涂過(guò)程中的至少一種。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的清潔系統(tǒng)，其中，所述清潔化學(xué)溶液包括堿性清潔化學(xué)溶液。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的清潔系統(tǒng)，其中，所述清潔裝置還包括壓力控制裝置，其中壓力控制裝置配置成在確定數(shù)量循環(huán)中使所述壓力容器內(nèi)的壓力在起始?jí)毫χ岛推谕麎毫χ抵g波動(dòng)。
18.根據(jù)權(quán)利要求14所述的清潔系統(tǒng)，還包括：
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的清潔系統(tǒng)，其中，所述后處理部件配置成執(zhí)行動(dòng)力清洗、化學(xué)浸漬和擦洗過(guò)程中的至少一種。
20.一種清潔裝置，包括：