1.一種制造空白掩模的方法，所述方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述光致抗蝕劑層包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在維持所述光致抗蝕劑樹脂組合物填充在所述噴嘴的內(nèi)部的狀態(tài)時，
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其中，將所述光致抗蝕劑樹脂組合物填充在所述噴嘴的內(nèi)部的狀態(tài)維持30秒至300分鐘。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，在維持所述光致抗蝕劑樹脂組合物填充在所述噴嘴的內(nèi)部的狀態(tài)時，
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其中，維持所述光致抗蝕劑樹脂組合物填充在所述噴嘴的內(nèi)部的所述狀態(tài)，直到所述殘留物從所述噴嘴的所述內(nèi)表面脫離。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，所述光學(xué)不規(guī)則體的數(shù)量小于20/36平方英寸。
8.一種空白掩模，所述空白掩模包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的空白掩模，其中，所述光學(xué)不規(guī)則體的數(shù)量小于20/36平方英寸。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的空白掩模，其中，所述光學(xué)不規(guī)則體的折射率與所述光致抗蝕劑層的折射率不同。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的空白掩模，其中，所述光學(xué)不規(guī)則體的厚度與所述光致抗蝕劑層的厚度不同。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的空白掩模，其中，所述光學(xué)不規(guī)則體的光學(xué)厚度與所述平坦部分的光學(xué)厚度不同。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的空白掩模，其中，所述光學(xué)不規(guī)則體包括光路改變部。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的空白掩模，其中，所述光路改變部的折射率與所述平坦部分的折射率不同。
15.一種制造空白掩模的方法，所述方法包括：
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，通過填充在所述噴嘴的內(nèi)部的所述光致抗蝕劑樹脂組合物使附著到所述噴嘴的所述內(nèi)表面的所述殘留物脫離。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，將所述光致抗蝕劑樹脂組合物填充在所述噴嘴的內(nèi)部的狀態(tài)維持30秒至300分鐘。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述殘留物的折射率與所述光致抗蝕劑層的折射率不同。
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述光致抗蝕劑樹脂組合物為液體，并且所述殘留物為固體。
20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述光學(xué)不規(guī)則體的數(shù)量小于20/36平方英寸。