本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種彩色濾光片及其形成方法。

背景技術(shù)：

1、隨著科技的進(jìn)步和發(fā)展，液晶顯示器得到了廣泛的應(yīng)用，其中，薄膜晶體管液晶顯示器(thin?film?transistor-liquid?crystal?display，縮寫(xiě)為tft-lcd)由于具有低的功耗、優(yōu)異的畫(huà)面以及較高的生產(chǎn)良率等性能，目前逐漸占據(jù)了顯示領(lǐng)域。

2、薄膜晶體管液晶顯示器由兩片玻璃組成，其上端是彩色濾光片，下端是薄膜晶體管(thin?film?transistor，縮寫(xiě)為tft)，中間夾著一層液晶，再搭配偏光板、背光板以及驅(qū)動(dòng)電路等元件組成一個(gè)完整的顯示模塊。其中，彩色濾光片(color?filter，縮寫(xiě)為cf)是組成薄膜晶體管液晶顯示器的關(guān)鍵零組件，用于讓液晶顯示器產(chǎn)生彩色畫(huà)面，其主要由透明玻璃基板、黑矩陣層(black?matrix，縮寫(xiě)為bm)和彩色光阻層等結(jié)構(gòu)組成。

3、然而，現(xiàn)有的彩色濾光片的性能有待進(jìn)一步改善。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種彩色濾光片及其形成方法，以提高形成的彩色濾光片的性能。

2、為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明技術(shù)方案提供一種彩色濾光片，包括：透光基板，所述透光基板包括若干單元區(qū)和相鄰單元區(qū)之間的切割區(qū)，各所述單元區(qū)包括有效區(qū)、包圍所述有效區(qū)的框膠區(qū)、以及位于所述框膠區(qū)和所述有效區(qū)之間的額緣區(qū)；位于所述透光基板上的黑矩陣層，所述黑矩陣層內(nèi)具有位于所述有效區(qū)上的若干沿第一方向陣列排布的開(kāi)口單元、位于所述額緣區(qū)上的內(nèi)槽和位于所述切割區(qū)上的切割槽，所述內(nèi)槽、所述切割槽和若干所述開(kāi)口單元均暴露出所述透光基板，所述內(nèi)槽和所述切割槽均包圍所述有效區(qū)；位于若干所述開(kāi)口單元內(nèi)的濾光結(jié)構(gòu)；位于所述內(nèi)槽內(nèi)的輔光阻結(jié)構(gòu)，所述輔光阻結(jié)構(gòu)包括至少兩層相互重疊的不同基色的輔光阻層。

3、可選的，所述彩色濾光片還包括：若干支撐柱，所述若干支撐柱位于所述有效區(qū)上的所述濾光結(jié)構(gòu)上，還位于所述切割區(qū)上的所述黑矩陣層上。

4、可選的，所述內(nèi)槽包括平行于所述第一方向的兩個(gè)相對(duì)的第一內(nèi)槽和平行于第二方向的兩個(gè)相對(duì)的第二內(nèi)槽，所述第一方向和所述第二方向相互垂直，所述第一內(nèi)槽和所述第二內(nèi)槽于端部相互連通；所述輔光阻結(jié)構(gòu)包括位于所述第一內(nèi)槽內(nèi)的第一輔光阻部和位于所述第二內(nèi)槽內(nèi)的第二輔光阻部。

5、可選的，所述第一輔光阻部還位于所述第一內(nèi)槽相鄰的部分所述黑矩陣層表面；所述第一輔光阻部包括沿所述第二方向排布的第一區(qū)、第二區(qū)和第三區(qū)，所述第二區(qū)位于所述第一內(nèi)槽內(nèi)，所述第一區(qū)和所述第三區(qū)位于所述第二區(qū)的兩側(cè)；所述第一區(qū)具有沿所述第二方向的第一寬度，所述第一寬度的范圍為0.5μm至6μm；所述第三區(qū)具有沿所述第二方向的第二寬度，所述第二寬度的范圍為0.5μm至6μm。

6、可選的，所述不同基色的輔光阻層包括：若干第一基色層、若干第二基色層和若干第三基色層，所述第一基色層、所述第二基色層和所述第三基色層的基色互不相同；所述第一輔光阻部包括若干所述第一基色層、若干所述第二基色層和若干所述第三基色層，一組所述第一基色層、所述第二基色層和所述第三基色層沿所述第一方向排布組成周期結(jié)構(gòu)，若干所述周期結(jié)構(gòu)沿所述第一方向排布；所述第一輔光阻部中，相鄰的三種不同基色的所述輔光阻層之間具有部分相互重疊的重疊區(qū)。

7、可選的，所述重疊區(qū)在所述第一方向上的寬度小于或等于8μm。

8、可選的，所述不同基色的輔光阻層還包括：第四基色層和第五基色層，所述第四基色層與所述第一基色層、所述第二基色層和所述第三基色層中的一者相同，所述第五基色層與所述第一基色層、所述第二基色層和所述第三基色層中的另一者相同；所述第二輔光阻部包括相互重疊的所述第四基色層和所述第五基色層。

9、可選的，所述第二輔光阻部還位于所述第二內(nèi)槽相鄰的部分所述黑矩陣層表面；所述第二輔光阻部包括沿所述第一方向排布的第四區(qū)、第五區(qū)和第六區(qū)，所述第五區(qū)位于所述第二內(nèi)槽內(nèi)，所述第四區(qū)和所述第六區(qū)位于所述第五區(qū)的兩側(cè)；所述第四區(qū)具有沿所述第一方向的第三寬度，所述第三寬度的范圍為0.5μm至6μm；所述第六區(qū)具有沿所述第一方向的第四寬度，所述第四寬度的范圍為0.5μm至6μm。

10、可選的，各所述開(kāi)口單元包括沿所述第一方向排布的第一開(kāi)口、第二開(kāi)口和第三開(kāi)口；所述濾光結(jié)構(gòu)包括若干主光阻層，所述若干主光阻層包括位于所述第一開(kāi)口內(nèi)的第一主光阻層、位于所述第二開(kāi)口內(nèi)的第二主光阻層和位于所述第三開(kāi)口內(nèi)的第三主光組層；相鄰的不同基色的所述輔光阻層之間的間距與相鄰的不同基色的所述主光阻層之間的間距相同。

11、可選的，所述內(nèi)槽和所述有效區(qū)之間的距離范圍為0.1mm至1.0mm；所述內(nèi)槽的寬度范圍為5μm至20μm。

12、可選的，所述切割槽的寬度范圍為30μm至80μm。

13、相應(yīng)的，本發(fā)明的技術(shù)方案還提供一種彩色濾光片的形成方法，包括：提供透光基板，所述透光基板包括若干單元區(qū)和相鄰單元區(qū)之間的切割區(qū)，各所述單元區(qū)包括有效區(qū)、包圍所述有效區(qū)的框膠區(qū)、以及位于所述框膠區(qū)和所述有效區(qū)之間的額緣區(qū)；在所述透光基板上形成黑矩陣層，所述黑矩陣層具有位于所述有效區(qū)上的若干沿第一方向陣列排布的開(kāi)口單元、位于所述額緣區(qū)上的內(nèi)槽，所述內(nèi)槽、所述切割槽和若干所述開(kāi)口單元均暴露出所述透光基板，所述內(nèi)槽和所述切割槽均包圍所述有效區(qū)；形成位于若干所述開(kāi)口單元內(nèi)的濾光結(jié)構(gòu)和位于所述內(nèi)槽內(nèi)的輔光阻結(jié)構(gòu)，所述輔光阻結(jié)構(gòu)包括至少兩層相互重疊的不同基色的輔光阻層。

14、可選的，所述方法還包括：在所述有效區(qū)上的所述濾光結(jié)構(gòu)上和所述切割區(qū)上的所述黑矩陣層上形成若干支撐柱。

15、可選的，所述濾光結(jié)構(gòu)和所述輔光阻結(jié)構(gòu)的形成方法包括：在形成所述濾光結(jié)構(gòu)的同時(shí)形成所述輔光阻結(jié)構(gòu)。

16、可選的，所述內(nèi)槽包括平行于所述第一方向的兩個(gè)相對(duì)的第一內(nèi)槽和平行于第二方向的兩個(gè)相對(duì)的第二內(nèi)槽，所述第一方向和所述第二方向相互垂直，所述第一內(nèi)槽和所述第二內(nèi)槽于端部相互連通；所述輔光阻結(jié)構(gòu)包括位于所述第一內(nèi)槽內(nèi)的第一輔光阻部和位于所述第二內(nèi)槽內(nèi)的第二輔光阻部。

17、可選的，所述不同基色的輔光阻層包括：若干第一基色層、若干第二基色層和若干第三基色層，所述第一基色層、所述第二基色層和所述第三基色層的基色互不相同；所述第一輔光阻部包括若干所述第一基色層、若干所述第二基色層和若干所述第三基色層，一組所述第一基色層、所述第二基色層和所述第三基色層沿所述第一方向排布組成周期結(jié)構(gòu)，若干所述周期結(jié)構(gòu)沿所述第一方向排布；所述第一輔光阻部中，相鄰的三種不同基色的所述輔光阻層之間具有部分相互重疊的重疊區(qū)。

18、可選的，所述不同基色的輔光阻層還包括：第四基色層和第五基色層，所述第四基色層與所述第一基色層、所述第二基色層和所述第三基色層中的一者相同，所述第五基色層與所述第一基色層、所述第二基色層和所述第三基色層中的另一者相同；所述第二輔光阻部包括：相互重疊的所述第四基色層和所述第五基色層。

19、可選的，各所述開(kāi)口單元包括沿所述第一方向排布的第一開(kāi)口、第二開(kāi)口和第三開(kāi)口；所述濾光結(jié)構(gòu)包括位于所述第一開(kāi)口內(nèi)的第一主光阻層、位于所述第二開(kāi)口內(nèi)的第二主光阻層和位于所述第三開(kāi)口內(nèi)的第三主光阻層。

20、可選的，所述濾光結(jié)構(gòu)和所述輔光阻結(jié)構(gòu)的形成方法包括：在第一光刻工藝中同時(shí)形成若干所述第一基色層和若干所述第一主光阻層；在所述第一光刻工藝之后，在第二光刻工藝中同時(shí)形成若干所述第二基色層和若干所述第二主光阻層；在所述第二光刻工藝之后，在第三光刻工藝中同時(shí)形成若干所述第三基色層和若干所述第三主光阻層；所述第一光刻工藝、所述第二光刻工藝和所述第三光刻工藝采用同一掩膜版，所述第二輔光阻部與所述第一基色層、第二基色層和所述第三基色層同時(shí)形成；所述第一光刻工藝、所述第二光刻工藝和所述第三光刻工藝采用不同掩膜版，所述第二輔光阻部與所述第一基色層、第二基色層和所述第三基色層中的任意兩者同時(shí)形成。

21、現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案具有以下有益效果：

22、本發(fā)明技術(shù)方案提供的彩色濾光片形成方法中，由于開(kāi)槽位置離像素區(qū)越近，對(duì)水汽和電的隔斷效果越好，但同時(shí)越容易產(chǎn)生透光問(wèn)題，開(kāi)槽位置離像素區(qū)越遠(yuǎn)，對(duì)透光的不良影響也越弱，但對(duì)水汽和電的隔斷效果越弱，采用切割槽和內(nèi)槽相結(jié)合的方式，其中所述切割槽位于框膠區(qū)之外的切割區(qū)上，切割槽用于后續(xù)切割形成獨(dú)立的液晶顯示面板，且在起到隔斷效果的同時(shí)，可以避免框膠處的透光問(wèn)題；同時(shí)，在所述內(nèi)槽內(nèi)形成輔光阻結(jié)構(gòu)，所述輔光阻結(jié)構(gòu)包括至少兩層相互重疊的不同基色的輔光阻層，所述輔光阻結(jié)構(gòu)用于避光，可以有效改善透光，優(yōu)化彩色濾光片性能。

23、進(jìn)一步，在所述有效區(qū)上的所述濾光結(jié)構(gòu)上和所述切割區(qū)上的所述黑矩陣層上形成若干支撐柱，可使所述切割區(qū)上的若干支撐柱高度均一性好，利于切割過(guò)程受力均勻性，提高濾光片的性能。

24、進(jìn)一步，在形成所述濾光結(jié)構(gòu)的同時(shí)形成所述輔光阻結(jié)構(gòu)，在采用所述輔光阻結(jié)構(gòu)改善透光，優(yōu)化彩色濾光片性能的同時(shí)，不增加掩膜成本，利于控制生產(chǎn)成本。

25、本發(fā)明技術(shù)方案提供的彩色濾光片中，由于開(kāi)槽位置離像素區(qū)越近，對(duì)水汽和電的隔斷效果越好，但同時(shí)越容易產(chǎn)生透光問(wèn)題，開(kāi)槽位置離像素區(qū)越遠(yuǎn)，對(duì)透光的不良影響也越弱，但對(duì)水汽和電的隔斷效果越弱，采用切割槽和內(nèi)槽相結(jié)合的方式，其中所述切割槽位于框膠區(qū)之外的切割區(qū)上，所述切割槽用于后續(xù)切割形成獨(dú)立的液晶顯示面板，且在起到隔斷效果的同時(shí)，可以避免框膠處的透光問(wèn)題；同時(shí)，所述內(nèi)槽內(nèi)的輔光阻結(jié)構(gòu)，所述輔光阻結(jié)構(gòu)包括至少兩層相互重疊的不同基色的輔光阻層，所述輔光阻結(jié)構(gòu)用于避光，可以有效改善透光，優(yōu)化彩色濾光片性能。

26、進(jìn)一步，若干支撐柱位于所述有效區(qū)上的所述濾光結(jié)構(gòu)上，還位于所述切割區(qū)上的所述黑矩陣層上，在所述切割區(qū)上的所述黑矩陣層上設(shè)置支撐柱，可使所述切割區(qū)上的若干支撐柱高度均一性好，利于切割過(guò)程受力均勻性，提高濾光片的性能。