本發(fā)明屬于鉆井工程，具體涉及一種旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭及鉆井方法。
背景技術(shù)：
1、隨著全球能源需求持續(xù)增長，油氣資源開發(fā)正逐步向深層、超深層地層拓展。但深部地層普遍存在巖石強度高（單軸抗壓強度＞160?mpa）、非均質(zhì)性強（如花崗巖與燧石互層）等挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)機械鉆探技術(shù)依賴牙輪鉆頭或pdc切削齒的機械破碎作用，在硬巖層中面臨很多瓶頸，如鉆頭損耗嚴(yán)重、鉆進效率低、井眼質(zhì)量難以控制等。為此，熱能破巖技術(shù)成為研究熱點，其中非轉(zhuǎn)移弧等離子體射流通過高溫（＞8000?k）、高速（＞500?m/s）射流的熱熔蝕與熱沖擊耦合作用，可有效破碎硬巖。
2、然而，現(xiàn)有等離子破巖裝置存在根本性缺陷，受陽極噴嘴物理尺寸約束，射流直徑通常不大于30?mm，形成的破碎坑直徑僅20~40?mm，無法滿足鉆頭持續(xù)進給的孔徑需求；靜態(tài)射流長時間作用局部區(qū)域，不僅會造成噴嘴過熱損毀而且會增大破巖比能，破巖比能為去除單位體積巖石所需的能量。
3、因此，開發(fā)一種能夠增大破巖直徑且能保護噴嘴的新型等離子破巖鉆頭，已成為深層資源開發(fā)裝備升級的迫切需求。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的是為克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭。
2、為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：
3、一種旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭，包括沿軸向依次同軸固定連接的等離子射流鉆頭本體、導(dǎo)電滑環(huán)、空心軸，所述空心軸的另一端與電機的輸出端進行同軸固定連接；
4、所述等離子射流鉆頭本體包括陽極電極，所述陽極電極內(nèi)部設(shè)置貫通的放電腔室；
5、所述陽極電極面向?qū)щ娀h(huán)的一端與陽極基座固連，所述陽極基座的徑向內(nèi)側(cè)與陰極基座進行絕緣連接，所述陰極基座內(nèi)部固定設(shè)置有伸入到放電腔室內(nèi)的陰極電極；
6、所述陰極電極的中心軸線與放電腔室的中心軸線共線；
7、所述放電腔室遠(yuǎn)離陰極電極的一端貫通陽極電極的射流端形成陽極噴嘴；
8、所述陰極電極遠(yuǎn)離陽極噴嘴的端部中心點位于等離子射流鉆頭本體的中心軸線上；
9、所述放電腔室的中心軸線與等離子射流鉆頭本體的中心軸線之間存在傾斜夾角。
10、優(yōu)選的，所述傾斜夾角的范圍為15°～45°。
11、優(yōu)選的，所述放電腔室的中心軸線與陽極電極射流端的交點、陽極電極射流端中心點之間的距離是l1，所述放電腔室的長度為l2，l1與l2比值的范圍為1:8~1:6。
12、優(yōu)選的，所述放電腔室包括依次同軸相接的第一圓柱面通道、圓臺面通道、第二圓柱面通道，所述圓臺面通道的大頭端遠(yuǎn)離陽極噴嘴且與第一圓柱面通道相接；
13、所述陰極電極由第一圓柱面通道伸入到圓臺面通道內(nèi)。
14、優(yōu)選的，所述陽極基座的徑向內(nèi)側(cè)與陰極基座之間通過呈環(huán)形結(jié)構(gòu)的絕緣陶瓷進行絕緣連接。
15、優(yōu)選的，所述陰極電極的內(nèi)部設(shè)置冷卻腔，所述陰極基座上設(shè)置有連通至冷卻腔內(nèi)的冷卻水通道、回水通道。
16、優(yōu)選的，所述絕緣陶瓷上設(shè)置有連通至放電腔室的氣體通道。
17、本發(fā)明還提供一種旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆井方法。
18、一種旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆井方法，基于旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭進行實施，包括以下步驟：
19、向放電腔室內(nèi)輸入工作介質(zhì)，工作介質(zhì)在放電腔室內(nèi)電離為等離子體，等離子體經(jīng)陽極噴嘴噴射形成傾斜射流；
20、電機通過空心軸、導(dǎo)電滑環(huán)驅(qū)動等離子射流鉆頭本體旋轉(zhuǎn)，使傾斜射流旋轉(zhuǎn)畫圓形成動態(tài)射流，在巖石表面形成圓形燒蝕軌跡，實現(xiàn)旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖，增大破巖孔徑。
21、本發(fā)明的有益效果是：
22、（1）本發(fā)明通過放電腔室、陰極電極相對于等離子射流鉆頭本體中心軸線的傾斜設(shè)置，使放電腔室的中心軸線與陽極電極射流端的交點偏離陽極電極射流端中心點，結(jié)合電機對等離子射流鉆頭本體旋轉(zhuǎn)的控制，在鉆井過程中，使由陽極噴嘴噴射的等離子體旋轉(zhuǎn)畫圓形成動態(tài)射流，在巖石表面形成圓形燒蝕軌跡，與現(xiàn)有的將陽極噴嘴與鉆頭本體進行同軸設(shè)置相比，在陽極噴嘴尺寸相同的情況下，本申請圓形燒蝕軌跡的形成增大了破巖孔徑；動態(tài)射流避免了對破碎坑內(nèi)已經(jīng)融化的巖漿進行反復(fù)加熱，減少了能量的浪費，同時熱應(yīng)力作用范圍擴大，增大了對花崗巖、玄武巖等脆性巖石內(nèi)部的裂縫生長，對劣化損傷巖石有明顯效果。
23、（2）本發(fā)明中等離子射流鉆頭本體旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力會分散射流熱負(fù)荷，使得弧根附著點不斷跳躍移動，無法固定在某個位置加重?zé)g，從而延長陽極噴嘴壽命；同時在破巖過程中，同軸靜態(tài)等離子射流在沖擊巖石表面后會反射作用于鉆頭端面，造成端面燒蝕嚴(yán)重，而傾斜的動態(tài)等離子射流可以極大減弱射流反蝕，從而延長等離子鉆頭的壽命。
1.一種旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭，其特征在于，包括沿軸向依次同軸固定連接的等離子射流鉆頭本體、導(dǎo)電滑環(huán)、空心軸，所述空心軸的另一端與電機的輸出端進行同軸固定連接；
2.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭，其特征在于，所述傾斜夾角的范圍為15°～45°。
3.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭，其特征在于，所述放電腔室的中心軸線與陽極電極射流端的交點、陽極電極射流端中心點之間的距離是l1，所述放電腔室的長度為l2，l1與l2比值的范圍為1:8~1:6。
4.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭，其特征在于，所述放電腔室包括依次同軸相接的第一圓柱面通道、圓臺面通道、第二圓柱面通道，所述圓臺面通道的大頭端遠(yuǎn)離陽極噴嘴且與第一圓柱面通道相接；
5.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭，其特征在于，所述陽極基座的徑向內(nèi)側(cè)與陰極基座之間通過呈環(huán)形結(jié)構(gòu)的絕緣陶瓷進行絕緣連接。
6.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭，其特征在于，所述陰極電極的內(nèi)部設(shè)置冷卻腔，所述陰極基座上設(shè)置有連通至冷卻腔內(nèi)的冷卻水通道、回水通道。
7.如權(quán)利要求5所述的旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭，其特征在于，所述絕緣陶瓷上設(shè)置有連通至放電腔室的氣體通道。
8.一種旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆井方法，基于如權(quán)利要求1～7任一項所述的旋轉(zhuǎn)掃掠式等離子射流破巖鉆頭進行實施，其特征在于，包括以下步驟：