欧美日韩啪啪,最新精品在线,国产ts一区二区,色亚洲一区二区,草草影院国产,久久国产99,欧美日韩四区

液體噴出頭以及印刷裝置的制作方法

文檔序號:42324790發(fā)布日期:2025-07-01 19:41閱讀:9來源:國知局

本發(fā)明涉及噴出墨等液體而進行印刷的液體噴出頭以及具有該液體噴出頭的印刷裝置。


背景技術(shù):

1、已知有在需要時噴出所需的量的墨的按需噴墨型的噴墨頭。作為按需噴墨型的噴墨頭的例子,具有壓電方式的噴墨頭。壓電方式的噴墨頭具有墨供給流路、與噴嘴及墨供給流路連接的多個壓力室以及向填充于壓力室內(nèi)的墨施加壓力的壓電元件。

2、在壓電方式的噴墨頭中,已知有一種控制方法,即,預(yù)先使墨的彎液面振動,與共振周期的相位相應(yīng)地使壓力室收縮,從而高效地噴出墨(例如,專利文獻1)。彎液面振動的周期由壓力室的形狀、容量、與壓力室連接的節(jié)流流路的阻力等決定。

3、為了高精細的印刷,期望從噴嘴噴出的墨的小滴化。為了將墨小滴化,減小噴出速度、減小噴嘴的截面積或者縮短共振周期中的至少任一個是有效的。

4、若減小噴出速度,則容易受氣流的影響,墨的著落精度紊亂,或霧增加,或墨的液滴難以筆直地飛行。若減小噴嘴的截面積,則有時在噴嘴前端部墨干燥而堵塞或墨的噴出角度變化。另外,為了縮短共振周期,具有減小壓力室的容積或增大節(jié)流流路的截面積的方法,但在采用了這種方法的情況下,作為副作用,彎液面振動的壓力波通過共通流路而傳到相鄰的噴嘴,有時對相鄰噴嘴的動作產(chǎn)生負面影響。這種對相鄰噴嘴的負面影響被稱作串?dāng)_等。

5、在專利文獻2中公開了一種在不使噴嘴截面積不必要地減小的情況下減小共振周期從而將墨小滴化的噴墨頭,該噴墨頭能夠抑制由減小共振周期帶來的串?dāng)_的惡化。

6、專利文獻2的噴墨頭通過在壓力室與共通流路之間設(shè)置中間室以及兩個節(jié)流流路,從而壓力室內(nèi)的墨的壓力變動的影響難以傳到共通流路,因此能夠兼顧噴出墨的小滴化與串?dāng)_的抑制。

7、現(xiàn)有技術(shù)文獻

8、專利文獻

9、專利文獻1:國際公開第2010/146945號

10、專利文獻2:日本專利第6990877號公報


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、期望使專利文獻2所公開的技術(shù)更加發(fā)展,進一步抑制由串?dāng)_導(dǎo)致的噴出異常,并且實現(xiàn)噴出的液體的小滴化。

2、本發(fā)明的目的在于提供能夠兼顧噴出的液體的小滴化與串?dāng)_的抑制的液體噴出頭以及印刷裝置。

3、本發(fā)明的一方案的液體噴出頭具備:壓力室,其與噴出液體的噴嘴連接;共通流路;以及中間室,其配置于所述壓力室與所述共通流路之間,并通過節(jié)流流路而與所述壓力室以及所述共通流路分別連接,所述中間室的容積比所述壓力室的容積大。

4、本發(fā)明的一方案的印刷裝置具備:上述的液體噴出頭;移動機構(gòu),其使被印刷物相對于所述液體噴出頭相對地移動;以及控制部,其控制所述液體噴出頭以及所述移動機構(gòu)。

5、根據(jù)本發(fā)明,能夠兼顧噴出的液體的小滴化與串?dāng)_的抑制。



技術(shù)特征:

1.一種液體噴出頭,其中,

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴出頭,其中,

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴出頭,其中,

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液體噴出頭,其中,

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴出頭,其中,

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液體噴出頭,其中,

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液體噴出頭,其中,

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液體噴出頭,其中,

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴出頭,其中,

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴出頭,其中,

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液體噴出頭,其中,

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的液體噴出頭,其中,

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的液體噴出頭,其中,

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的液體噴出頭,其中,

15.一種印刷裝置,其中,


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供能夠兼顧噴出的液體的小滴化與串?dāng)_的抑制的液體噴出頭以及印刷裝置。液體噴出頭具備:壓力室,其與噴出液體的噴嘴連接;共通流路;以及中間室,其配置于所述壓力室與所述共通流路之間,并通過節(jié)流流路而與所述壓力室以及所述共通流路分別連接,所述中間室的容積比所述壓力室的容積大。

技術(shù)研發(fā)人員:末益智志,中谷修平,豐福洋介
受保護的技術(shù)使用者:松下知識產(chǎn)權(quán)經(jīng)營株式會社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/6/30
網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
  • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點贊!
1