本發(fā)明涉及制氫領域，特別是一種用于制氫系統(tǒng)中的防堵塞型氣液分離器。
背景技術(shù)：
1、當前制氫系統(tǒng)配置的氣液分離器多采用常規(guī)離心分離結(jié)構(gòu)，在實際運行中暴露出兩方面技術(shù)瓶頸：(1)、電解液電解過程中析出的koh等結(jié)晶物質(zhì)，會持續(xù)附著在導流片表面形成結(jié)垢層；受結(jié)構(gòu)設計限制，該類設備需每運行500小時實施停機清洗，頻繁的維護作業(yè)嚴重影響制氫系統(tǒng)連續(xù)運行效率。(2)、傳統(tǒng)離心分離結(jié)構(gòu)對微米級液滴的捕獲能力存在技術(shù)短板，尤其針對粒徑＜10μm的液滴分離效率低于90％。細微液滴的逃逸不僅導致氫氣攜帶液霧雜質(zhì)，更直接影響產(chǎn)出氣體純度指標，難以滿足高純度氫氣管網(wǎng)的輸送要求。
2、綜上，如何提高液滴分離效率以及避免導流片表面形成結(jié)垢層成為了本領域研究人員急需解決的問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：如何提高液滴分離效率以及避免導流片表面形成結(jié)垢層；
2、為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采取的技術(shù)方案為：
3、本發(fā)明是一種用于制氫系統(tǒng)中的防堵塞型氣液分離器，包括：分離筒，其上部為中空的等徑部，下部為中空的錐部；進入管，其軸向水平設置在所述等徑部左側(cè)，并與所述等徑部連通設置；排氫管，其設置在所述等徑部右側(cè)，并與所述等徑部連通設置；集液槽，其設置在所述錐部的底部開口處；多個螺旋導流部，其沿所述進入管的軸向間隔分布在所述進入管內(nèi)，相鄰兩所述螺旋導流部之間形成間隙，沿介質(zhì)的流動方向，所述間隙逐漸減小；振動電機，其設置在所述螺旋導流部中部。
4、進一步，所述螺旋導流部包括：框架；導流片，所述框架內(nèi)繞其中心設置有多個間隔且傾斜的導流片，所述導流片的傾斜角度與介質(zhì)的流動方向的夾角為銳角設置，所述導流片徑向內(nèi)側(cè)處連接有所述振動電機。
5、進一步，所述進入管位于所述等徑部內(nèi)的一端朝下設置有延伸管，所述延伸管、進入管的連接處形成階梯結(jié)構(gòu)的撞擊面。
6、進一步，所述延伸管出口處設置有共振器。
7、進一步，所述等徑部、錐部連接處設置有納米霧沫捕捉器；
8、所述納米霧沫捕捉器包括頂部的親水性膜布、底部的疏水性膜布以及設置在所述親水性膜布、疏水性膜布之間的疏水氣孔網(wǎng)。
9、進一步，所述錐部的底部開口處設置有液位傳感器以及排液閥。
10、本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明是一種用于制氫系統(tǒng)中的防堵塞型氣液分離器，液滴切向經(jīng)過螺旋導流部流入導流片的間隙進行加速，附著在導流片上晶體通過振動電機的振動進行除去，避免了導流片表面形成結(jié)垢層。
1.一種用于制氫系統(tǒng)中的防堵塞型氣液分離器，其特征在于，包括：分離筒，其上部為中空的等徑部，下部為中空的錐部；進入管，其軸向水平設置在所述等徑部左側(cè)，并與所述等徑部連通設置；排氫管，其設置在所述等徑部右側(cè)，并與所述等徑部連通設置；集液槽，其設置在所述錐部的底部開口處；多個螺旋導流部，其沿所述進入管的軸向間隔分布在所述進入管內(nèi)，相鄰兩所述螺旋導流部之間形成間隙，沿介質(zhì)的流動方向，所述間隙逐漸減??；振動電機，其設置在所述螺旋導流部中部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制氫系統(tǒng)中的防堵塞型氣液分離器，其特征在于，所述螺旋導流部包括：框架；導流片，所述框架內(nèi)繞其中心設置有多個間隔且傾斜的導流片，所述導流片的傾斜角度與介質(zhì)的流動方向的夾角為銳角設置，所述導流片徑向內(nèi)側(cè)處連接有所述振動電機。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制氫系統(tǒng)中的防堵塞型氣液分離器，其特征在于，所述進入管位于所述等徑部內(nèi)的一端朝下設置有延伸管，所述延伸管、進入管的連接處形成階梯結(jié)構(gòu)的撞擊面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于制氫系統(tǒng)中的防堵塞型氣液分離器，其特征在于，所述延伸管出口處設置有共振器。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制氫系統(tǒng)中的防堵塞型氣液分離器，其特征在于，所述等徑部、錐部連接處設置有納米霧沫捕捉器；
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制氫系統(tǒng)中的防堵塞型氣液分離器，其特征在于，所述錐部的底部開口處設置有液位傳感器以及排液閥。